簡 介

HF用于提純鋁和鈾，也用來蝕刻玻璃；半導體工業中，使用它來除去硅表面的氧化物；在煉油廠，它可用作異丁烷和丁烷的烷基化反應的催化劑；除去不銹鋼表面含氧雜質的“浸酸”過程也會用到HF。HF還用于多種含氟有機物的合成，如Teflon、氟利昂類致冷劑等。

HCl是重要的無機化工原料，廣泛用于染料、醫藥、食品、印染、皮革、冶金等行業。

HF和HCl均具腐蝕性和毒性，威脅作業場所人員職業安全健康（OSH），也影響生產安全，已引起職業安全健康和安全生產監管部門重視。

迄今，分析檢測痕量HF和HCl，較成熟的技術是光聲光譜（PAS）氣體分析技術或離子遷移譜（IMS）技術，檢出限為ppb級或更低。

用戶價值

1）高可靠性。已經驗證能測量HF和HCl的技術，短光路，抗干擾。

2）高靈敏性�？梢苑治龅蚿pb級的痕量組分。

3）線性度好。線性范圍為10⁵。

4）易于操作。一鍵式操作，友好的人機界面。

5）便于搬運。儀器可方便地搬運，實現現場快速檢測。

6）減少校準。只需校準零點和另一個濃度點，建議6個月一次。

7）省卻麻煩。無需每天都校準零點。

核心產品

GaseraOne多功能氣體分析儀，采用光聲光譜技術，對HF和HCl的檢出限為0.2 ppb，線性范圍為10⁵。

可選產品

IMS分析儀，離子遷移譜技術，直接進樣分析HF和HCl，測量范圍為 5- 300 ppb，精度為5%。詳情請致電400 005 6606垂詢。

配套產品

1）Sonimix 2106 高精度氣體稀釋裝置，稀釋瓶裝標準氣體，校準GaseraOne。

2）Sonimix 6000 多功能氣體校準裝置，以滲透法產生痕量標準氣體，校準GaseraOne。

簡  介

電廠等工業排放需監測NH3、NO、NO2、CO、CO2、SO2、SF6等多種氣體。隨著排放標準越益嚴格，對分析儀器的檢測限和量程范圍提出了苛刻的要求。完成多氣種分析，常采用多臺氣體分析儀，其成本高，占地空間大，搬運不方便，操作繁瑣。有的傳感器壽命有限，漂移大，測量結果可信度查，需經常校準，實用性較低。本解決方案基于經驗證的光聲多氣體分析技術。一臺儀器，分析最多9種氣體，檢出限低，線性范圍寬，經濟性好，壽命長，實用性強。

用戶價值

1）高可靠性。已經驗證能測量多氣體分析技術，短光路，抗干擾。

2）高靈敏性�？梢苑治龅蚿pb級的痕量組分。

3）線性度好。線性范圍為105。

4）易于操作。一鍵式操作，友好的人機界面。

5）便于搬運。儀器可方便地搬運，實現現場快速檢測。

6）減少校準。只需校準零點和另一個濃度點，建議6個月一次。

7）省卻麻煩。無需每天都校準零點。

核心產品

GaseraOne多功能氣體分析儀，采用光聲光譜技術，CO檢出限為0.2 ppm，CO2檢出限為2 ppm，H2O檢出限為10 ppm，NO檢出限1 ppm，NO2檢出限0.1 ppm，SF6檢出限0.01 ppm，SO2檢出限0.1 ppm，線性范圍為10⁵。

可選產品

1）Sonimix 2106 高精度氣體稀釋裝置，稀釋瓶裝標準氣體，校準GaseraOne。

2）Sonimix 6000 多功能氣體校準裝置，以滲透法產生痕量標準氣體，校準GaseraOne。